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PVD设备

类别: 应用示例 发布日期:2017年12月26日(星期二)

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物理气相沉积(Physical Vapor Deposition)是一种通过加热或等离子能量将薄膜原料蒸发并使其在基板上形成薄膜的方法。PVD基本方法:①利用热能使薄膜所需要的材料蒸发,并沉积到的基板表面;②分子束外延并且将蒸发的粒子变成离子的离子镀膜;③用辉光放电等离子法进行陶瓷薄膜溅等方法。

Moretec的磁流体也应用于这些PVD设备。

由于Moretec的磁流体寿命长,因此最适合用于PVD设备的工作台以及靶材等的洁净旋转机构。

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