CVD设备
类别: 应用示例
发布日期:2017年12月26日(星期二)
CVD设备是一种在半导体表面上沉积约10nm至1000nm的薄膜的薄膜形成设备。
薄膜的原料是各种气体,利用“热”,“光”,“等离子体”等方法使这些气体进行化学反应并形成薄膜。
化学气相沉积的优点很多,如成膜速度快、处理面积大、均匀沉积在不平坦表面上等。
即使在低温下条件下也可能精密薄膜,也可以控制由于热引起的损伤、控制层间相互扩散。 即使对于难以热分解的原材料也可以获得实用的沉积速率,并且可以使用具有不同热分解温度的材料形成各种各样组成比的薄膜。
迄今为止,我们已经为CVD设备制造商提供了大量磁流体。 我们耐腐蚀性气体的磁流体被广泛用于CVD设备中。
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